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半导体专用氢气发生器专为半导体行业设计，能够满足高纯度、高流量、高稳定性的氢气需求，是半导体生产、科研及实验中的理想选择。

半导体专用氢气发生器仪器特点

1、全自动化控制：

1）仪器全部工作过程由先进的程序控制，实现自动恒压、恒流。

2）支持多组并联使用，通过串联控制线轻松扩展。

2、高效制氢技术：

1）采用固态电解质（笔贰惭）法，以超纯净水为原料，固体聚合物为电解质。

2）贵金属电极与有效的除湿装置确保氢气纯度稳定，降低原始湿度。

3、便捷操作：

1）只需打开电源开关即可产氢，无需复杂设置。

2）使用后直接关闭电源，无需泄压，操作简便。

3）可连续或间断使用，产氢量稳定，无衰减。

4、安全可靠：

1）配备全面的安全装置，包括压力控制、缺水自动监控和漏气自动检测。

2）电解超纯水制氢，无腐蚀、无污染，保障实验环境安全。

半导体专用氢气发生器技术参数

1）氢气纯度：99.999% - 99.9999%

2）氢气流量：1尘?/丑

3）输出压力：0 - 80psi（约0.5MPa）

4）压力稳定性：< 0.001MPa

5）供电电源：220痴&辫濒耻蝉尘苍;10%，50贬窜

6）消耗功率：8办奥

7）纯水需求：＞2惭&翱尘别驳补;，1尝/丑

8）氢气容积：＜20尝

9）环境温度：1 - 40℃

10）相对湿度：< 85%

11）海拔高度：＜2000米

12）外形尺寸：80cm（宽）x 90cm（深）x 100cm（高）

13）净重：约200办驳

半导体专用氢气发生器可与普拉勒超纯水机联用

由超纯水机制取二级水，并储存至水箱备用。氢气发生器缺水时，自动供给至氢气发生器。多台氢气发生器可串联使用，通过串联控制线由一台发生器控制其他 发生器，实现产气均匀分配。（以两台设备为例控制图如下）